第九十一章 晶元與光刻

晶元國長久以的痛，且難以解決。

當然，解決只高端的晶元，納米製程3-20納米區間，20納米以的，基本已被攻克，問題並。

唯3-20納米區間，每縮一等級，所需的光刻機以及工藝製程的難度就高了一量級，甚至難如登的說法。

知多少國外的技術拿斷言，哪怕給國內圖紙，國內也製造。

因為種東西，就跟原子彈一樣，設計原理很簡單，但真做千難萬難，根本解決了原料、設備、工藝等等問題。某種程度，晶元比原子彈還高難度，原子彈能爆炸就行，重，晶元卻越越好，都往電子層級了。

但無論設備、原材料、輔料些，國內都存很短板，甚至一片空白。

如此情況，想製造一塊高端晶元的確如走蜀，難如登。

正公司晶元的設計，經幾十年的持續投入，如今已經以說獨步了，足以世界頂尖的鷹醬一較高。

然而，製造商一卡，正公司自己設計的晶元完全沒了用武之地，找到地方生產，就逼得正公司得自己搞，國內諸多廠商一同探討方案。

就周飛宇自己看到的新聞，的就爆料說正公司搞了突破、搞了那創新。

嗯，晶元設計也被正公司玩了花樣。

異構、重疊等等方案，剛開始新聞發布會宣布，被許多噴子狂噴，但隨後久某果就跟了，噴子立即就表示某果才真正的技術公司、才能真正的做好的晶元。周飛宇表示：些真娘的才，沒三四十年的腦血栓想么雙標的說辭。

「……注意到，周總研發的款fy-02聚醯亞胺材料，性能非常優異，遠超國外田豐化學、王者材料生產的產品。所以就想，以周總的聰明才智，以光敏型聚醯亞胺方向做做研發，目的重疊晶元，儘管測試樣成功，但良率極低，線路精度達到。除了設備精度之外，光刻膠也很重的一原因……」

隨後的會議，余龍光周飛宇聊起了正公司的一些情況，聊起了光刻膠的事情。

正公司內部的機密，余龍光肯定能透露的，說的都一些能說的，或者對外界還未公布的一些細節。

，會議室內除了正公司的周飛宇，其它都被清場了。

按余龍光的說法，為了保密，請周飛宇理解一。

「光敏型的聚醯亞胺材料？」

周飛宇心一動，腦海里立即浮現關「級薄膜技術」針對超薄、特殊性能的薄膜的一些相關知識。

其，的確提到用於光刻膠的一些光敏型聚醯亞胺材料。

光刻膠，顧名思義，用於光刻的一種膠。

所謂光刻，字面意思就用光雕刻。

當然，自然界的光，以及各種極紫外線，無法直接像一把刀一樣雕刻東西的，只那種具超高能量的激光之類，才能用於直接雕刻。

晶元領域的光刻，利用某些具對光線非常敏感特性的膠，均勻塗抹晶圓，然後再膠的表面貼付一層薄膜，層薄膜被設計成需的電路圖案。光線從電路圖案穿，照射到膠的表面，膠因為對光線敏感於發生反應，顯露電路圖案相同或相反的電路圖案，那些沒被光線照射到的地方，自然還被膠覆蓋著。

然後，將晶圓浸入特製的溶液當。

如此一，被膠覆蓋著的地方，晶圓被保護了起，沒變化。而那些沒膠的地方，特製溶液就將晶圓腐蝕了。

腐蝕的痕迹，自然就電路圖案相同或者相反。

晶圓從特殊溶液取，用純凈水一衝，面就留了所需的電路圖案。

所以，與其說光刻，如說蝕刻，腐蝕雕刻，只種「腐蝕雕刻」比一般所說的腐蝕雕刻精度高了n等級，同日而語，所以起了比較高的名字「光刻」。

致原理如此，但知易行難。

一的晶元，集成的電路宛若一型的世界，裡面的精度以納米計算。

只輔助生產用的光刻膠，它所限制的厚度也都以納米計算。

譬如20納米製程的晶元製造，需的光刻膠厚度就能超100納米，更為先進的3-10納米製程晶元，它所需的光刻膠厚度就想而知了。

周飛宇暗暗思考了一會，知以飛揚新材料目的設備以及製程能力說，還達到種技術，還需一段間的發展擴充。

「方便透露，正公司目哪家公司聯合研發一塊嗎？」

周飛宇嘴卻沒說什麼，反而問了起。

「目正公司正金陵的華科新材公司合作，望月完成arf線光刻膠的測試工作，月進入試產階段。」

余龍光會沒隱瞞了，直接說。

當然，說完之後也忘叮囑周飛宇注意保密工作。

「了解了。」

周飛宇點了點頭，也知正公司千方百計想重回手機晶元行業，以至於見識到的材料研發能力后，余龍光都特意跑了聊。

，余龍光所說的月完成arf線光刻膠測試，月進入試產，點信的，哪么快么順利的測試？

余龍光見反應很，心些失望，隨後便嘆了口氣后說：「光刻膠領域技術難度，市場容量卻，驗證周期長，的確很多企業或者團體願意往方面投入。周總若沒方面的想法，也能理解。」

的確，光刻膠領域又難又沒什麼途，而且難熬。

玩家就那麼幾，哪怕生產了光刻膠，想驗證款膠好還好，都沒法驗證，因為晶元製造商才那麼幾家，生產光刻機的製造商也那麼幾家，它既會輕易的更換供應商，也會隨便就給驗證一款新材料。

行業的壟斷頑固，技術的高難度，都阻擋了投入的興趣。

「余總您激將法……」

聽著的話，周飛宇卻輕笑一聲。