第168章 光刻機新進展
天宇科技被突如其來的訂單推動著高速運轉。那僅有的三套光刻機生產線，如同瓶頸一般，制約著晶元生產的規模與速度。林宇再次踏入姜老的實驗室，心中滿是對光刻機技術進展的期待。
實驗室里一如既往地瀰漫著嚴謹而專註的氛圍。各種儀器設備發出輕微的嗡嗡聲，彷彿在訴說著研發工作的緊張與忙碌。姜老正站在一塊巨大的白板前，上面畫滿了複雜的光路圖和技術參數，他正和幾位年輕的研究員熱烈地討論著。
看到林宇進來，姜老臉上露出一絲欣慰的笑容：「林總，你又來關心光刻機的進展了。」
林宇急切地回應道：「姜老，這訂單壓力實在太大了，光刻機的產量直接關係到我們能否按時交付產品啊。上次那100納米光刻機技術現在進展得怎麼樣了？」
姜老放下手中的筆，帶著林宇走到一台大型設備前。這台設備被各種線纜和防護裝置包裹著，看起來充滿了科技感。
「林總，你看，自從上次你來過後，我們在100納米光刻機技術上又取得了不少關鍵的進展。」姜老一邊說，一邊示意助手打開設備的展示模式。
設備的顯示屏上開始出現各種數據和模擬動畫。姜老指著屏幕上的一個部件模型解釋道：「這是我們重新設計的光刻鏡頭，在你給我們的技術基礎上，我們進一步優化了鏡頭的光學結構。現在這個鏡頭的數值孔徑提高了不少，能夠更有效地收集和聚焦光線，這對於提高光刻解析度至關重要。」
林宇看著屏幕上複雜的結構模型，心中滿是驚喜：「姜老，這看起來很了不起啊。那這個鏡頭在實際測試中的表現如何呢？」
姜老微微一笑，帶著林宇來到一個測試間。測試間里，一台小型的光刻實驗設備正在運行。透過觀察窗，可以看到微弱的光線在晶元樣本上精確地刻蝕著微小的電路圖案。
「林總，我們已經進行了多次實際測試。這個新鏡頭在100納米尺度下的光刻精度已經非常穩定了。它能夠清晰地刻出複雜的電路結構，而且在不同的晶元材料上都表現出了良好的適應性。」姜老自豪地說道。
林宇心中的一塊大石頭落了地：「姜老，這真是個好消息。那EUV光源的穩定性問題呢？上次您提到這個是一個關鍵的挑戰。」
姜老的表情變得嚴肅起來：「林總，EUV光源的穩定性我們也有了很大的改善。你還記得上次我們調整了光源的激發頻率和能量輸入方式嗎？在那之後，我們又對光源的內部結構進行了優化。」
姜老帶著林宇來到一個單獨的房間，裡面擺放著一個巨大的EUV光源裝置。裝置周圍布滿了各種監測儀器，數據在屏幕上不斷跳動。
「我們改進了EUV光源的等離子體產生機制，通過精確控制電子的注入和磁場的約束，使得等離子體的穩定性大大提高。現在，EUV光源的輸出功率波動已經控制在一個非常小的範圍內，基本能夠滿足長時間光刻的需求。」姜老詳細地介紹著。
林宇仔細觀察著儀器上的數據，臉上露出了滿意的笑容：「姜老，您和您的團隊真是太厲害了。這對我們公司來說是一個巨大的突破。」
姜老擺擺手：「林總，先別高興得太早。雖然我們在這些關鍵部件上取得了進展，但整個光刻機系統還有一些問題需要解決。」
林宇心中一緊：「姜老，還有什麼問題呢？」
姜老帶著林宇回到白板前，指著白板上的一些電路圖和控制系統圖說道：「林總，你看，目前我們的光刻機控制系統還不夠智能化。在光刻過程中，需要實時監測和調整的參數非常多，比如光刻膠的曝光劑量、工作台的移動速度、光源的功率等等。我們現有的控制系統在處理這些複雜的參數時，響應速度和精度還有待提高。」
「姜老，我仔細思考過您之前提到的光刻機控制系統的問題。我有一些想法，或許能夠對其進行優化。」林宇自信地說道。
姜老眼睛一亮：「林總，那你快說說看。」
林宇走到白板前，拿起筆開始畫圖講解。「目前控制系統在處理多個複雜參數時響應速度和精度不足，我們可以從架構上進行重新設計。首先，採用分層式的控制系統架構，將整個系統分為感知層、決策層和執行層。」
林宇在白板上畫出簡單的架構圖，繼續解釋道：「感知層負責實時收集光刻過程中的各種參數，如光刻膠的曝光劑量、工作台的移動速度、光源的功率等。我們可以採用更先進的感測器技術，提高參數採集的精度和頻率。」
一位年輕的研究員問道：「林總，那目前的感測器技術可能無法滿足這麼高的要求，我們需要重新研發嗎？」
林宇微笑著回答：「我們不需要完全重新研發。可以對現有的感測器進行改進，通過優化感測器的材料和結構來提高性能。我知道有一些新型的半導體材料在感測器應用方面有很大的潛力，我們可以嘗試將其引入。」
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姜老點頭表示贊同：「這個想法很新穎，繼續說下去，林總。」
林宇接著說：「決策層是控制系統的核心部分。在這裡，我們需要引入先進的演算法來處理感知層傳來的大量數據。我建議採用人工智慧演算法中的神經網路演算法，它具有很強的自學習和自適應能力。通過對大量光刻數據的學習，能夠快速準確地做出決策，調整各個參數。」
聽到人工智慧演算法，大家都露出了驚訝的表情。在1991年，人工智慧還是一個相對新興的概念。
「林總，人工智慧演算法在這個領域的應用還很少見，我們是否有足夠的技術支持呢？」另一位研究員擔憂地問道。
林宇解釋道：「雖然目前應用較少，但我們可以從基礎開始構建。我可以提供一些演算法的基本框架和思路，然後我們的技術團隊再根據光刻機的實際情況進行優化。而且，我相信隨著我們的探索和研究，這個演算法會在控制系統中發揮巨大的作用。」
「那執行層呢？林總。」姜老問道。
林宇在架構圖上指著執行層部分說：「執行層負責將決策層做出的指令準確地轉化為實際的操作。我們要提高執行層的響應速度和準確性，可以採用高速的信號傳輸技術和精密的執行元件。比如，優化電路設計，減少信號傳輸的延遲，同時選用高精度的電機和驅動器來控制工作台的移動。」
姜老沉思片刻后說：「林總，你的這個架構設計看起來很有潛力。但是要實現這個架構，我們還面臨很多技術難題。比如，神經網路演算法的訓練需要大量的數據和計算資源，我們目前的設備可能無法滿足。」
林宇早有準備：「姜老，這確實是個問題。我們可以分階段進行。首先，利用現有的數據建立一個簡化版的神經網路模型，進行初步的測試和優化。同時，我們可以申請購置一些更先進的計算設備，用於後續的大規模數據訓練。另外，我們也可以和一些高校或者研究機構合作，共享計算資源。」
在討論完架構設計后，林宇又提出了關於提高系統可靠性的想法。
「為了提高系統的可靠性，我們可以引入冗餘設計。在關鍵的部件和線路上，增加備份設備和線路。這樣，當某個部件出現故障時，備份能夠及時接替工作，不會影響整個光刻過程。」
姜老對這個想法非常認可：「林總，冗餘設計在這種高精度的設備中非常重要。這可以大大減少因故障導致的生產中斷時間。」
接下來的一整天，林宇和姜老的團隊成員們一起深入討論每個細節。從感測器的選型到演算法的具體實現，從執行元件的參數到冗餘設計的布局，每一個環節都經過了細緻的分析和論證。
在討論過程中，林宇還分享了前世一些成功的案例和失敗的教訓。這些寶貴的經驗讓團隊成員們受益匪淺，他們從中學到了很多書本上沒有的知識。
隨著時間的推移，大家對林宇提出的優化方案越來越有信心。雖然知道前方還有很多困難需要克服，但每個人都充滿了鬥志。
「林總，今天真是收穫頗豐啊。你的這些想法為我們打開了新的思路。接下來，我們就按照這個方案開始著手優化工作吧。」姜老充滿幹勁地說。
林宇看著大家充滿熱情的樣子，心中也充滿了希望：「姜老，大家都很辛苦。希望我們能夠儘快實現光刻機控制系統的優化，讓我們的100納米光刻機早日投入生產。」